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2018-12-21 19:57:56
目前应用多的镀铝薄膜主要有聚酯镀铝膜(VMPET)和CPP 镀铝膜(VMCPP)。薄膜表面镀铝的作用是遮光、防紫外线照射,既延长了内容物的保质期,又提高了薄膜的亮度双面镀铝膜,从一定程度上代替了铝箔,也具有价廉、美观及较好的阻隔性能,因此,镀铝膜在复合包装中的应用十分广泛,目前主要应用于饼干等干燥、膨化食品包装以及一些医(yi)药、化妆品的外包装上。
真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射。真空蒸发镀膜是在真空度不低于10-2Pa的环境中,用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到一定温度,使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能,从而使大量分子或原子蒸发或升华,并直接沉淀在基片上形成薄膜镀铝膜厂家。离子溅射镀膜是利用气体放电产生的正离子在电场的作用下的高速运动轰击作为阴极的靶,使靶材中的原子或分子逸出来而沉淀到被镀工件的表面,形成所需要的薄膜。
真空蒸发镀膜常用的是电阻加热法,其优点是加热源的结构简单,造价低廉,操作方便;缺点是不适用于难熔金属和耐高温的介质材料。电子束加热和激光加热则能克服电阻加热的缺点。电子束加热上利用聚焦电子束直接对被轰击材料加热,电子束的动能变成热能,使材料蒸发。激光加热是利用大功率的激光作为加热源,但由于大功率激光器的造价很高,目前只能在少数研究性实验室中使用。
溅射技术与真空蒸发技术有所不同。“溅射”是指荷能粒子轰击固体表面(靶),使固体原子或分子从表面射出的现象。射出的粒子大多呈原子状态,常称为溅射原子。用于轰击靶的溅射粒子可以是电子,离子或中性粒子,因为离子在电场下易于加速获得所需要动能,因此大都采用离子作为轰击粒子。溅射过程建立在辉光放电的基础上,即溅射离子都来源于气体放电。不同的溅射技术所采用的辉光放电方式有所不同。直流二极溅射利用的是直流辉光放电;三极溅射是利用热阴极支持的辉光放电;射频溅射是利用射频辉光放电;磁控溅射是利用环状磁场控制下的辉光放电。溅射镀膜与真空蒸发镀膜相比,有许多优点。如任何物质均可以溅射,尤其是高熔点,低蒸气压的元素和化合物;溅射膜与基板之间的附着性好;薄膜密度高;膜厚可控制和重复性好等。缺点是设备比较复杂,需要高压装置。此外,将蒸发法与溅射法相结合,即为离子镀。这种方法的优点是得到的膜与基板间有极强的附着力,有较高的沉积速率,膜的密度高。
产品名称:镀铝膜制作
产品特点:优良的耐热、耐寒性和良好的耐化学药品性和耐油性
产品用途:产品应用外包装、文具、礼品袋、烟酒、化妆品、灯饰、建材、窗贴、不干胶、鞋材,胶印,凹印,丝印,柯式印刷,特种印刷等
目前在家居 浴帘,台布,手袋,包袋,包装、文具、礼品、化妆品、灯饰、建材、广告装璜、不干胶、鞋业、运动器。
公司主要从事PET、OPP、PE、PVC、CPP等材质镭射膜和镀铝膜的研发、生产、加工、销售、回收为一体的高新技术企业。公司产品广泛应用于烟酒、马口铁、编织袋、食品、药品、日化品等包装上。可进行复合、转移、吸塑、烫印等多种加工工艺。
公司引进国外先进设备多台,有大型镀铝机三台(上海曙光和德国莱宝),镭射模压机8台(硬压、中压、软压),大型分切机5台。生产技术指标均达到国内同行业先进水平,确保生产出符合客户要求的高质量薄膜产品。公司以可靠的产品质量和的服务,赢得了客户的信赖和好评。
热烈欢迎广大用户来电来函洽谈业务,光临指导。让我们真诚合作、互惠互利、携手共进、共创辉煌!
在使用非镀铝胶的时候,很多操作人员为减小胶水内聚力对镀铝层的影响,避免镀铝迁移,往往会故意减少固化剂的比例,比如减少3%~5%,使胶水不能完全固化,熟化完成后,剥离镀铝层,仍然有轻微的粘结感,测试剥离强度,强度值非常高。这样不但解决了镀铝层迁移,也保证了较高的剥离强度,表面看一举两得。但这样做的隐患是胶水固化不充分,有害物质的活性远远高于固化充分的状态,向内容物迁移的速度非常快,存在较大的卫生安全隐患。另外,这样做还会影响热封强度以及复合膜热封的平整性。
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